تجهیزات لیتوگرافی چاپ مدار (Lithography Equipment)

تجهیزات لیتوگرافی، الگوهای مدار یا دستگاه را با استفاده از یک ماسک طرح‌دار و یک پرتو نور یا الکترون به روی یک بستر منتقل می‌کنند تا به طور انتخابی یک لایه مقاوم به نور را در معرض دید قرار دهند. سیستم‌های اندازه‌شناسی روکش، ماسک‌های الگو یا شبکه‌های شبکه را تراز می‌کنند.


در این بخش تا کنون هیچ کسب و کاری ثبت نام نکرده‌است، اگر فعالیت شما مرتبط با این بخش می‌باشد بعنوان اولین کسب و کار فعال در این بخش ثبت نام کنید و از شش ماه اشتراک رایگان بهره مند شوید.

تجهیزات لیتوگرافی

به روز رسانی شده در ۱۴۰۴/۹/۲۷ زمان مطالعه 10 دقیقه

 

اطلاعات تجهیزات لیتوگرافی

نمایش تمام سازندگان تجهیزات لیتوگرافی

تجهیزات لیتوگرافی

تجهیزات لیتوگرافی، الگوهای مدار یا دستگاه را با استفاده از یک ماسک طرح‌دار و یک پرتو نور یا الکترون به لایه‌های مقاوم در برابر عکس به طور انتخابی در معرض دید قرار می‌دهند. سیستم‌های اندازه‌شناسی روکش، ماسک‌های الگو یا شبک‌ه‌ها را تراز می‌کنند.

امکانات

تجهیزات لیتوگرافی شامل تکنیک‌های مختلفی برای انتقال الگوهای مدار به برد مدار چاپی است، مانند فوتولیتوگرافی که از ماسک یا الگو استفاده می‌کند و نانولیتوگرافی که از تصویربرداری پرتو الکترونی برای تولید الگو استفاده می‌کند. نوع دیگری از فرآیند لیتوگرافی برای ایجاد نمونه های اولیه سه بعدی استفاده می شود. استریولیتوگرافی یک شی سه بعدی را بر اساس نقشه های طراحی به کمک کامپیوتر با ردیابی پرتو لیزر بر روی سطح ظرفی از یک ماده پلیمری ایجاد می کند. پرتو لیزر لایه را جامد می کند و سپس در پلیمر غوطه ور می شود و لایه دیگری جامد می شود. این روند تا تکمیل نمونه اولیه سه بعدی ادامه می یابد.

انواع

تجهیزات لیتوگرافی مورد استفاده برای ایجاد الگوهای روی بردهای مدار چاپی و ساخت سیستم های میکرو الکترومکانیکی (MEMS) عبارتند از:

  • تراز کننده های ماسک

  • استپرها

  • ابزارهای نوشتن مستقیم

  • ابزار بازرسی ویفر

مشخصات فنی

تراز کننده های ماسک اطمینان حاصل می کنند که ماسک نوری به درستی روی ویفر تراز شده است. برای انتقال تصویر به ویفر از استپرها استفاده می شود. ابزارهای نوشتن مستقیم از پرتوهای لیزر برای نوشتن مستقیم روی ویفر استفاده می کنند. ابزارهای بازرسی ویفر اطمینان حاصل می کنند که ویفر عاری از نقص است. تجهیزات لیتوگرافی مورد استفاده برای تولید MEMS شامل ماشینکاری سه بعدی، اچ خشک یا مرطوب و ماشینکاری تخلیه الکتریکی است. تجهیزات لیتوگرافی مورد استفاده در ریزماشینکاری می توانند اجزای MEMS را برای استفاده در شتاب سنج ها و چاپگرهای جوهرافشان، سنسورهای فشار و سوئیچ های نوری تولید کنند.

تجهیزات لیتوگرافی مورد استفاده در کاربردهای فناوری نانو شامل استفاده از یک پرتو الکترونی برای ایجاد الگوهای ماسک به طور مستقیم بر روی یک ویفر یا بستر است. طول موج کوچک مورد استفاده در تصویربرداری پرتو الکترونی (EBI) پرتو الکترونی را قادر می‌سازد تا الگوهای دقیقی ایجاد کند. توموگرافی پرتوی الکترونی یک فناوری پزشکی است که از یک پرتو الکترونی چرخان برای اسکن بدن نیز استفاده می کند.

منبع

 

globalspec.com
 


تجهیزات لیتوگرافی

محل تبلیغات شما
سرویس تبلیغات تکصان
تبلغات مبتنی بر نوع بازدید کننده و محل بازدید
با ما در تماس باشید و تبلیغات هدف دار و هوشمند به مشتری اصلی را ارائه کنید.